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GA系列化合物抛光液
产品名称
GA系列化合物抛光液
产品描述
GA系列化合物抛光液适用于砷化镓、氮化镓、磷化铟、锗等主流半导体材料的抛光加工。使用简单，与纯水稀释至一定比例后即可使用，产品具有很好的流动性和分散性。通过用户反馈，该产品还具有金属杂质残留量低、易清洗、抛光效率高、表面粗糙度低等优点，各项技术指标均满足IC要求。
砷化镓晶片